Представленное оборудование является ярким примером внедрения
последних разработок для повышения качества, надежности, компактности и
стабильности в область лазерной очистки. Интеграция новой системы управления с
понятным интерфейсом дает возможность увеличить время непрерывной работы и не тратить
лишнее время на сложную настройку оборудования.
Технология лазерной очистки подразумевает использование
лазерных лучей для воздействия на поверхность заготовки для ее обработки под
воздействием фото-физической реакции с взаимодействием между наносекундным
импульсом лазера и слоем загрязнения, в результате чего частицы грязи, ржавчина
и иные загрязнения мгновенно испаряются.
Конструкция установки проста и легковесна, эргономичный
дизайн удобен в эксплуатации. Энергопотребление снижено для максимально
возможного баланса между эффективностью и экономией.
Благодаря точному позиционированию очистки можно эффективно удалять
загрязнения микронного размера, даже хрупких материалов. Алюминиевые, углеродные
(армированные волокнами полимеры), стальные поверхности могут быть легко
очищены без швов и повреждения материала.
Характеристики:
| Рабочее
напряжение (В) |
220 В±10%
переменного тока
50/60 Гц |
| Среда установки |
Плоская
поверхность без ударов и вибрации |
| Температура рабочей среды: (℃) |
-10～50℃ |
| Влажность рабочей среды (%) |
＜70 |
| Охлаждение |
гидроохлаждение |
| Длина волны |
1064
нм (±10 нм) |
| Мощность |
1500
Вт |
| Коллиматор |
D16-F60 |
| Фокус |
D20*T3.5-(F400/F600/F800) |
| Рефлекс |
20x15.2xT1.6 |
| Защитное зеркало |
D30*T5 |
| Максимальное давление |
15
bar |
| Ширина сканирования |
F400-0~150мм |
| F600-0~225мм |
| F800-0~300 мм |
| Вес ручного оборудования |
0,7
кг |
